近日,EPC(宜普電源轉(zhuǎn)換公司)創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官AlexLidow大膽斷言,氮化鎵(GaN)技術(shù)發(fā)展的臨界點(diǎn)已然來(lái)臨。這一觀點(diǎn)在半導(dǎo)體行業(yè)中激起層層漣漪,引發(fā)廣泛關(guān)注與熱烈討論。
AlexLidow指出,當(dāng)前氮化鎵技術(shù)在多個(gè)關(guān)鍵領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了重大突破,從基礎(chǔ)材料研發(fā)到終端應(yīng)用落地,...  [詳內(nèi)文]
EPC創(chuàng)始人表示:氮化鎵臨界點(diǎn)已到來(lái) |
作者 huang, Mia|發(fā)布日期 2025 年 01 月 25 日 16:02 | 分類 企業(yè) |